硅片除气装置-北京硅片除气装置-科创真空

真空除气存储柜工艺流程

真空除气存储柜、真空除气炉的控制操作可以选择手动与自动两种模式。

该设备有两种工艺流程：常温保压工艺与加热除气工艺。用户可根据实际情况需要，在设备上设定需要的执行功能与详细的目标参数。当用户设定参数之后，系统即按照用户的设定参数默认执行。

设备具有---的智能化，当用户设定的参数目标值存在错误或逻辑冲突时，硅片除气装置厂家，系统会及时提醒并不能按照错误的数据启动运行设备。并可以提供20+组不同的参数组，供客户选择和修改。并且具备工艺记忆功能，方便客户的使用。

真空除气储存柜的使用

1、真空除气装置，真空除气炉报价，硅片除气装置，在抽真空之前放置好产品、关闭箱室门，然后启动抽真空，加热系统持续不间断渐热。真空除气炉公司，达到设定真空度时，保持加热并持续保持真空度，设定工艺完成后，自动停止抽真空，加热系统关闭。当进入维持真空模式时，低于下限的时候自动启动；（启动为抽真空、停止为停止真空泵工作、解压为需要把真空破空）

2、真空度设定操作见操作说明书，北京硅片除气装置，用不到的功能禁止调整。

3、试验时间完成后，自动破空，破空完成后，方可开门取出产品。