硅片除气装置-北京科创真空-硅片除气装置价格

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    2024-2-11

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高真空除气炉的特点

科创鼎新公司生产的高真空除气炉,真空度可---10-7pa,硅片除气装置价格,可用于半导体硅片的除气以及红外芯片、气密性封装、航空航天芯片等其他电子产品的封装。

高真空除气炉特点: 

 ---真空度高;

 控温精度高;

 更高的升温速率;

 智能化;

 可真空去除产品空洞与气泡;

 降低产品的氧化性;

 提高工艺室的洁净度。




真空除气储存柜的使用

1、真空除气装置,真空除气炉报价,在抽真空之前放置好产品、关闭箱室门,然后启动抽真空,加热系统持续不间断渐热。真空除气炉公司,达到设定真空度时,保持加热并持续保持真空度,设定工艺完成后,自动停止抽真空,加热系统关闭。当进入维持真空模式时,低于下限的时候自动启动;(启动为抽真空、停止为停止真空泵工作、解压为需要把真空破空)

2、真空度设定操作见操作说明书,用不到的功能禁止调整。

3、试验时间完成后,自动破空,破空完成后,方可开门取出产品。




真空除气储存柜维护要求

真空除气储存柜,又称真空存储箱,用于各类金属材料,化工原料,半导体芯片、电路板、电子器件,硅片除气装置公司,电池片、电池材料等其他易氧化材料的真空存储,硅片除气装置,防潮、防氧化。也可用于胶水的真空脱泡、除气等作用,经常在真空灌胶消气泡的工艺过程中应用。

1、放入需要保存的产品,快速抽真空到---真空,可能逐渐回压到一个平衡值,长期保存;

2、放入保存的产品后,启动程序,快速抽至真空下限值,持续保压如箱内回压到上限值之后,会自动启动抽真空至下限值;

3、抽真空至下真空度后,自动充入氮气至常压,在无氧环境下保存产品。

为了提高空间的利用率,通常可以分为两腔,三腔,四腔,硅片除气装置,六腔体等等。根据产品的存放要求,存放时间和工艺产线要求,程序可以做不同的调整。



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