科创真空公司-硅片除气装置公司-北京硅片除气装置

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    2023-12-20

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真空除气存储柜工艺流程

真空除气存储柜、真空除气炉的控制操作可以选择手动与自动两种模式。

该设备有两种工艺流程:常温保压工艺与加热除气工艺。用户可根据实际情况需要,在设备上设定需要的执行功能与详细的目标参数。当用户设定参数之后,硅片除气装置公司,系统即按照用户的设定参数默认执行。

设备具有---的智能化,硅片除气装置,当用户设定的参数目标值存在错误或逻辑冲突时,系统会及时提醒并不能按照错误的数据启动运行设备。并可以提供20+组不同的参数组,供客户选择和修改。并且具备工艺记忆功能,方便客户的使用。




真空除气储存柜通过以下技术方案得以实现

一种真空除气存储柜,包括真空室、真空系统、加热系统、水冷、柜体等,柜体内设置有一个或多个储物室,储物室朝向柜体前端的一端为储物室的开口端,柜体上设置有将储物室的开口端封闭的封盖,储物室的内部底端设置有能够自储物室的开口端抽出的水平的托板,托板的两侧与储物室内部相对的两个侧壁滑动相连,真空除气炉。




真空除气储存柜的技术参数

1. 腔室内尺寸:号宽1050x高200x深700mm  号宽1050x高380x深700mm;

2. ---真空度:2×10-5pa;

3. 加热烘烤:200-800℃烘烤除---能,硅片除气装置厂家,±3℃;

4. 整体结构型式:泵箱一体,三个腔室;

5. 观察窗:每一个箱室均配一个φ100观察窗,材质为石英玻璃,透光好;

6. 控制方式:一室一泵配置,北京硅片除气装置,自动保持真空,可手动独立控制工作;

7. 异常报警功能:具有自动监控各部分的运行状态功能,异常诊断报警,故障诊断,并停止设备运行的功能。




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